當(dāng)前位置：濕法刻蝕清洗機(jī)（鏈?zhǔn)剑?/h2>
產(chǎn)品名稱(chēng)：濕法刻蝕清洗機(jī)（鏈?zhǔn)?/span>）
功能簡(jiǎn)介：用于硅片表面拋光清洗處理
工藝流程：水膜→酸刻蝕→水洗→堿洗→水洗→酸洗→水洗→烘干
設(shè)備特點(diǎn)：高帶速精準(zhǔn)帶液刻蝕滾輪，避免邊緣欠刻或過(guò)刻；精細(xì)化水膜控制，確保水膜覆蓋完整無(wú)掉水；電導(dǎo)率實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)藥液濃度， 保證刻蝕工藝穩(wěn)定；量產(chǎn)穩(wěn)定3.5帶速，少摩擦，耗材壽命更長(zhǎng)
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產(chǎn)品名稱(chēng) |
濕法刻蝕清洗機(jī)（鏈?zhǔn)?/span>） |
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型號(hào) |
KSKSQXJ |
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適用工藝路線(xiàn) |
PERC |
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功能簡(jiǎn)介 |
用于硅片表面拋光清洗處理 |
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工藝流程 |
水膜→酸刻蝕→水洗→堿洗→水洗→酸洗→水洗→烘干 |
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適用硅片尺寸 |
182x182mm、可兼容 18X-230 硅片多種尺寸 |
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道數(shù) |
5 |
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帶速 |
1.0-4.0m/min |
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碎片率 |
硅片厚度≥130um，碎片率<0.01% |
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功率/電壓 |
30KW/380V 50Hz3 相5線(xiàn)制 |
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設(shè)備特點(diǎn) |
高帶速精準(zhǔn)帶液刻蝕滾輪，避免邊緣欠刻或過(guò)刻；精細(xì)化水膜控制，確保水膜覆蓋完整無(wú)掉水；電導(dǎo)率實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)藥液濃度， 保證刻蝕工藝穩(wěn)定；量產(chǎn)穩(wěn)定3.5帶速，少摩擦，耗材壽命更長(zhǎng) |